膜厚測試儀是一種用于測量物體表面薄膜厚度的儀器，其工作原理根據不同的測量技術而有所不同。以下是幾種常見的膜厚測試儀及其工作原理：
1. 機械接觸式膜厚儀
工作原理：通過探針或觸針直接接觸被測表面，測量薄膜與基體之間的高度差，從而計算出薄膜的厚度。
特點：
適用于粗糙表面或較厚的薄膜。
精度較低，可能對薄膜造成損傷。
2. 光學膜厚儀
工作原理：利用光學原理（如反射、干涉、折射等）測量薄膜厚度。常見的光學膜厚儀包括：
橢偏儀：通過測量入射光和反射光的偏振狀態變化，計算薄膜厚度和折射率。
干涉儀：基于光的干涉現象，測量薄膜上下表面的反射光相位差，從而計算厚度。
反射率法：通過測量薄膜對特定波長光的反射率，結合光學模型計算厚度。
特點：
非接觸式測量，不會損傷薄膜。
精度高，適用于納米級薄膜測量。
需要已知薄膜的光學參數（如折射率）。
3. 超聲波膜厚儀
工作原理：利用超聲波在薄膜和基體中的傳播速度差異，通過測量超聲波往返時間來計算薄膜厚度。
特點：
適用于多層結構或較厚的薄膜。
對薄膜表面粗糙度要求較低。
需要耦合劑（如水或油）以保證超聲波傳輸。
4. 電磁感應式膜厚儀
工作原理：基于電磁感應原理，通過測量渦流或磁場變化來推算薄膜厚度。適用于金屬薄膜或導電材料。
特點：
非接觸式測量。
適用于金屬或導電薄膜。
受材料電磁特性影響較大。
5. 放射性膜厚儀
工作原理：利用放射性同位素（如β射線或X射線）穿透薄膜，通過測量輻射強度衰減程度計算薄膜厚度。
特點：
適用于厚膜或高密度材料。
需要嚴格的安全防護措施。
6. 電容式膜厚儀
工作原理：通過測量薄膜與電極之間的電容變化，推算薄膜厚度。適用于介電薄膜或絕緣材料。
特點：
非接觸式測量。
適用于薄層或介電材料。
7. X射線熒光膜厚儀
工作原理：利用X射線照射薄膜，通過測量熒光輻射的強度和能量，分析薄膜成分和厚度。
特點：
適用于多層薄膜或復雜成分分析。
需要較高的設備成本和專業操作。
